פוטוליתוגרפיה
טכנולוגיה המשמשת בתעשיית האלקטרוניקה, מיקרואלקטרוניקה והמיקרומכניקה להדפסת שכבות מוליכים, מוליכים למחצה ומבודדים, על ידי הסרה מבוקרת של ח / ויקיפדיה האנציקלופדיה encyclopedia
פוטוליתוגרפיה היא טכנולוגיה המשמשת בתעשיית האלקטרוניקה, מיקרואלקטרוניקה והמיקרומכניקה להדפסת שכבות מוליכים, מוליכים למחצה ומבודדים, על ידי הסרה מבוקרת של חלקים ממצע, באופן שניתן לחזור עליה פעמים רבות בדומה לתהליך הליתוגרפיה. לצורך התהליך מוקרן אור דרך מסיכה על מצע רגיש לאור (פוטורזיסט) ובסדרה של תהליכים כימיים יוצרים את התבנית הרצויה על החומר שמתחת למצע. קיים דמיון בין התהליכים הכימיים בפוטוליתוגרפיה לאלו שמבוצעים בתצריב.
בייצור של מעגלים מודפסים חוזרים על התהליך עד 50 פעמים להשגת תבנית רב שכבתית.
בתעשיית המיקרואלקטרוניקה (VLSI) ניתן להגיע בטכנולוגיה זו (נכון לתחילת 2014) להדפסה של קווים בעובי של 22 ננומטר. בצורה זו ניתן לייצר שבבים המכילים מיליארדי טרנזיסטורים.
בתעשיית המיקרומכניקה, הפוטוליטוגרפיה משמשת לחיתוך צורני מרדיד מתכת, שיטת ייצור הנקראת חיתוך כימי. בטכנולוגיה חיתוך כימי ניתן לקבל רדיד צורתי בדיוק של פחות מ-500 ננומטר ובכל צורה רצויה. התוצר בשיטה זו מאפשר חיתוך לכל עומק הרדיד או חיתוך חלקי שיוצר שקעים צורניים ברדיד בעומק רצוי. שילוב של שיטת היצור חיתוך צורני ושיקוע צורני מאפשר יצור של מעטפות צורתיות של גופים תלת־ממדיים.