光刻胶維基百科,自由的 encyclopedia 光刻胶(英語:photoresist),亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射後,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工。 此條目可参照英語維基百科相應條目来扩充。 正性與負性光阻劑的示意圖
光刻胶(英語:photoresist),亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射後,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工。 此條目可参照英語維基百科相應條目来扩充。 正性與負性光阻劑的示意圖