极紫外光刻維基百科,自由的 encyclopedia 极紫外光刻(英语:extreme ultraviolet lithography,台湾称为极紫外光微影,简称“EUV”或“EUVL”)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術,目前用于7納米以下的先進製程,于2020年得到廣泛應用[1][2][3][4] 。 此條目可参照英語維基百科相應條目来扩充。 (2018年5月29日) 極紫外光微影的成像機制
极紫外光刻(英语:extreme ultraviolet lithography,台湾称为极紫外光微影,简称“EUV”或“EUVL”)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術,目前用于7納米以下的先進製程,于2020年得到廣泛應用[1][2][3][4] 。 此條目可参照英語維基百科相應條目来扩充。 (2018年5月29日) 極紫外光微影的成像機制